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193nm深紫外光光阻劑

 

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Surface modification

利用共價鍵結在材料表面形成一單分子層monolayer的化學分子,以改變原來材料的表面特性。使用於生醫應用的方面,主要兩類化學方法, 一是對矽基質的siloxane另一則是對金的thiol方法。利用hexamethyldisilazane HMDS來披覆一層emthyl(CH3)稱為methylating the surface增加光阻劑與其他表面的貼附。

 

HMDS [(CH3)3Si]2NH
去除SiO2表面的OH group
2SiOH + [(CH3)3Si]2NH -
> 2SiOSi(CH3)3 {bound to surface} + NH3     
去除SiO2表面的水分   H2O + [(CH3)3Si]2NH -> [(CH3)3Si]2O + NH3

此程序可以用來附著相當多不同的分子到矽的表面,包括蛋白質與基因,另外亦可於金的表面形成thiol來進行


H
MDS
半導體廠常用之脫水劑,用以塗附於矽晶片上與表面水蒸氣反應,並改變晶片表面特性由親水性變為親油性,以利光阻之塗蓋,增加光阻之附著力





Partial or total silylation of dextran with hexamethyldisilazane

 


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