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![](arrow_lightblue.gif) |
微流道微針陣列 |
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化學增幅型 |
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晶圓凸塊 |
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感光性間隙 |
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平坦化 |
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pHEMT閘極製程 |
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高深寬比 |
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厚膜光阻 |
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微影製程 |
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熱安定抗蝕刻 |
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側壁結構 |
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高深寬比電鑄模 |
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ASML PAS 5500 / 850C Stepper |
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Nikon stepper |
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TEL ACT 8 (i-line) Coater / Developer |
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Hitachi S-9220 CD-SEM |
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负性光刻胶。与曝光区域发生交联。特性:良好粘附力、良好阻挡作用、感光速度快。
有較好解析能力,
圖形縮小容易(光照速度快),
增加產能
(烘烤及顯影時間較短),
降低生產成本
乾式蝕刻
NR7 NR5系列
通過曝光能量,容易控制側壁的角度
在120°C
以下可用丙酮完全洗乾淨,
耐高溫
:
180°C
NR7經過Silylation
Process,可耐溫250°C
噴墨印刷Inkjet
printing已經成為快速成長的明星產業. 新一代微量噴墨頭Inkjet
Heads的製作上,
旋寶好化學扮演了重要的腳色
Lexmark
和HP
同時採用了NR4-8000P和NR5-8000
負型光阻開發新一代的微量噴墨頭
NR5-8000
在deep RIE , Bosch製程,可製作非常精緻的圖型
另一個NR5-8000廣泛使用
的地方是,鍍金時用NR5-8000做保護膜mask
曝光不足時,
NR5-8000
的圖型會向內凹,
因此,NR5-8000也非常適合Lift-off
製程
NR5-8000
適合大量生產用途,
有較好的解析度,線寬,厚度控制,耐高溫,PDMS接合,較短曝光和烘烤時間,任何厚度都可得到垂直的圖形,可取代正型光阻
![](nr5.jpg) |
![](nr52.jpg) |
深寬比
2.1:1
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深寬比
4.5:1
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濕式蝕刻
NR9系列
附著力強,不需粘著增進劑
容易洗淨,可用丙酮完全洗乾淨
耐溫 度
:
100°C
NR7
NR1 系列
Under cut
可用曝光能量控制
光阻剝離 :
在120°C
以下可用丙酮完全洗乾淨
耐溫度180°C,
NR7經過 Silylation
Process
製程,可耐溫250°C
NR9 系列
附著力強,
不需粘著增進劑
容易洗淨,可用丙酮完全洗乾淨
耐溫
:
100°C
Negative Resists |
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NR7-1000PY
0.7µm - 2.1µm
NR7-1500PY
1.1µm - 3.1µm
NR7-3000PY
2.1µm - 6.3µm
NR7-6000PY
5.0µm - 12.2µm |
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NR9-1000PY
0.7µm - 2.1µm
NR9-1500PY
1.1µm - 3.1µm
NR9-3000PY
2.1µm - 6.3µm
NR9-6000PY
5.0µm - 12.2µm
NR9-8000
6.0µm - 25.0µm |
Temperature resistance
<
130°C |
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型號 |
特性 |
NR9-PY |
用於lift-off製程,高黏附性、容易洗淨,耐高溫 |
NR7-PY |
用於lift-off製程,高溫,可作為永久間隔材料 |
NR7/NR9-PY |
用於lift-off製程,高黏附性、容易洗淨,耐高溫/做永久間隔材料 |
NR9-PY |
用於lift-off製程,高黏附性、容易洗淨,耐高溫 |
NR7-P |
做掩膜,適用於乾式蝕刻,可作永久間隔材料 |
NR9-P |
高黏附性,適用於電鍍和濕法蝕刻 |
NR5/NR7 |
可作厚膜掩膜,適用於離子蝕刻/做掩膜,可作永久間隔材料 |
NR2 |
可實現120um膜厚,6:1深寬比的圖案,適用於電鍍、濕法蝕刻 |
NR5 |
可作厚膜掩膜,適用於離子蝕刻 |
NR2-P |
可實現100um膜厚的凹凸圖案,解析度好,易於去除 |
NR9 |
增強了黏附性,適用於噴塗和輥塗 |
RD6 |
顯影時間短,適用於正、負性光阻劑 |
RR4/RR5 |
可以安全、高效的去除光阻劑及臨時塗層,適用於多種襯底材料 |
Machine Aligned
Fabrication of Submicron
Nb/Al-AlOX/Nb Junctions
using a Focused Ion Beam![](icoLeaf.gif)
A
Broadband
Surface-Micromachined
15-45 GHz Microstrip
Coupler![](icoLeaf.gif)
Enhancing reliability of
InGaN/GaN light-emitting
diodes by controlling
theetching profile of
the current blocking
layer![](icoLeaf.gif)
Integrated electroplated
heat spreaders for high
power semiconductor
lasers![](icoLeaf.gif)
InGaN/GaN
Multiple Quantum Well
Light-Emitting Diodes
grown on Polar,
Semi-polar and Non-Polar
Orientations![](icoLeaf.gif)
化學機械研磨法之垂直結構發光二極體![](icoLeaf.gif)
Layout Optimisation of
(In)GaN LEDs for
HighBrightness
Applications![](icoLeaf.gif)
Antifouling Stripes
Prepared from Clickable
Zwitterionic Copolymers![](icoLeaf.gif)
Biomedical Applications
for Microfluidic Devices![](icoLeaf.gif)
Spatial field control of
board area semiconductor
lasers with integrated
grating couplers![](icoLeaf.gif)
Simple Holographic
Patterning for
High-Aspect-Ratio
Three-Dimensional
Nanostructures with
Large Coverage Area![](icoLeaf.gif)
Full-Color Realization
of Micro-LED Displays![](icoLeaf.gif)
High efficiency membrane
light emitting diode
fabricated by back wafer
thinning technique![](icoLeaf.gif)
Heat dissipation
analysis of bendable
AlGaInP micro-LED arrays![](icoLeaf.gif)
High Breakdown Voltage
AlGaN/GaN HEMTs
Employing Recessed Gate
Edge![](icoLeaf.gif)
High-Q Tunable Silver
Capacitors for RFIC's![](icoLeaf.gif)
Design and fabrication
of GaN-based laser
diodes for single-mode
and narrow-linewidth
applications![](icoLeaf.gif)
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