负性光刻胶。与曝光区域发生交联。特性：良好粘附力、良好阻挡作用、感光速度快。
有較好解析能力,
圖形縮小容易(光照速度快),
增加產能
(烘烤及顯影時間較短),
降低生產成本
乾式蝕刻
NR7 NR5系列
速度是正型光阻的5 to 33倍
在120°C
以下可用丙酮完全洗乾淨,
耐高溫
:
180°C
NR7經過Silylation
Process,可耐溫250°C
噴墨印刷Inkjet
printing已經成為快速成長的明星產業. 新一代微量噴墨頭Inkjet
Heads的製作上,
XBH
扮演了重要的腳色
Lexmark
和HP
同時採用了NR4-8000P和NR5-8000
負型光阻開發新一代的微量噴墨頭
NR5-8000
在deep RIE , Bosch製程,可製作非常精緻的圖型
另一個NR5-8000廣泛使用
的地方是,鍍金時用NR5-8000做保護膜mask
曝光不足時,
NR5-8000
的圖型會向內凹,
因此,NR5-8000也非常適合Lift-off
製程
NR5-8000
適合大量生產用途,
有較好的解析度,線寬,厚度控制,耐高溫,PDMS接合,較短曝光和烘烤時間,任何厚度都可得到垂直的圖形,可取代正型光阻
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深寬比
2.1:1
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深寬比
4.5:1
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濕式蝕刻
NR9系列
附著力強,不需粘著增進劑
容易洗淨,可用丙酮完全洗乾淨
耐溫 度
:
100°C
NR7 NR1 系列
Under cut
可用曝光能量控制
光阻剝離 :
在120°C
以下可用丙酮完全洗乾淨
耐溫度180°C,
NR7經過 Silylation
Process
製程,可耐溫250°C
NR9 系列
附著力強,
不需粘著增進劑
容易洗淨,可用丙酮完全洗乾淨
耐溫
:
100°C
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型號 |
特性 |
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NR9-PY |
用於lift-off製程，高黏附性、容易洗淨，耐高溫 |
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NR7-PY |
用於lift-off製程，高溫，可作為永久間隔材料 |
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NR7/NR9-PY |
用於lift-off製程，高黏附性、容易洗淨，耐高溫/做永久間隔材料 |
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NR9-PY |
用於lift-off製程，高黏附性、容易洗淨，耐高溫 |
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NR7-P |
做掩膜，適用於乾式蝕刻，可作永久間隔材料 |
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NR9-P |
高黏附性，適用於電鍍和濕法蝕刻 |
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NR5/NR7 |
可作厚膜掩膜，適用於離子蝕刻/做掩膜，可作永久間隔材料 |
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NR2 |
可實現120um膜厚，6：1深寬比的圖案，適用於電鍍、濕法蝕刻 |
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NR5 |
可作厚膜掩膜，適用於離子蝕刻 |
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NR2-P |
可實現100um膜厚的凹凸圖案，解析度好，易於去除 |
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NR9 |
增強了黏附性，適用於噴塗和輥塗 |
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RD6 |
顯影時間短，適用於正、負性光阻劑 |
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RR4/RR5 |
可以安全、高效的去除光阻劑及臨時塗層，適用於多種襯底材料 |
Machine Aligned
Fabrication of Submicron
Nb/Al-AlOX/Nb Junctions
using a Focused Ion Beam
A
Broadband
Surface-Micromachined
15-45 GHz Microstrip
Coupler
High Breakdown Voltage
AlGaN/GaN HEMTs
Employing Recessed Gate
Edge
High-Q Tunable Silver
Capacitors for RFIC's
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