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Reel-to-reel laser patterning
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   
   

   

   
 
 
 

現場聚合PEDT塗層:
1280™ M( EDT))
1280™ CB (對甲苯磺酸鐵(III)正丁醇溶液)

支持塗層
1280™ P (PEDT:PSS) Silquest A187 (聚乙氧矽烷)

在玻璃基材上沉積一層支持塗層
注意:支持塗層是必要的,在玻璃上的沉積更是如此。沒有支援塗層,在清洗步驟中,很可能把
PEDT層剝離掉。支持塗層應有10-20nm的厚度。 推薦使用1280™ P 乙氧矽烷 作為支持塗層。

1280™ P 作為支持塗層
在玻璃基材上旋塗 1280™ P AI 1280™ P CH,得到 10-20nm 厚的膜,隨後在於 200° C下,於一熱的盤子上烘烤10分鐘。 b) 乙氧矽烷 作為支持塗層

在玻璃基材上旋塗A187 (1000rpm, t=120, Acc.2, 蓋子緊閉) 簡單地在稀釋的乙氧矽烷溶液中 (0.1% A187 於異丙醇中) 浸塗,然後在50°C下,於空氣中乾燥 5分鐘。濕度對乙氧矽烷的交聯有影響。我們優先選擇中等濕度 30 -70%

溶液混合
1280™ M 1280™ CB 40 咪唑Imidazol以重量比 1 : 25 : 0.5 混合。第一步中,咪唑溶解於CB40中。第二步中,添加1280™ M。可使用注射篩檢程式 (0.45μm PDVF)來清洗混合物

密度 1280™ M : 1,33g/cm³ , CB40: 1,03g/cm³

溶液塗覆 
加入
1280™ M 後,溶液須立即使用。由於聚合,過 5-10 分鐘後, 溶液開始形成膠體,膜將變得不均勻。

溶液可用200-3000rpm 的旋轉速度進行旋塗,形成薄且均勻的膜。在 50mm x 50mm 的基材上, 1000rpm, t=120, Acc.2, 蓋子緊閉的條件下,膜厚將是170nm

膜的乾燥 
乾燥
第一步:于
50° C下,於一熱的盤子上烘烤5分鐘。
第二步:室溫下的空氣中
60分鐘
濕度水平:
30-70%
當乾燥時,由於EDT聚合,膜的顏色隨之改變。

清洗
在充滿蒸餾水的大口燒杯中搖動基材,以徹底從膜上去除鐵鹽。
用氮氣流把附著水吹掉

導電性
在塗層的上面印刷兩個平行的導電柵(用銀漿),用歐姆計來測量電阻,這樣就可很容易得到導電性。典型的導電性範圍為
400- 600S/cm

 


 


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