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 返回首頁 > 產品與技術 > OLED蒸鍍設備

 
 

全彩、全自動OLED量產型生產設備

外觀及尺寸 外觀尺寸示意圖  基材尺寸:200mm x 200mm

示意圖 (基材尺寸:200mm x200mm)

1.5" 96x64 (64k color) OLED Panel

Active Area: 28 mm x 18 mm, 96x64 (64k color)

           

基板載入室  功用為載入基板時,可和連接的蒸鍍室內的高真空(10-6 torr) 隔離。

有機蒸鍍室  
有機蒸鍍的層數可由使用者自行決定,而且每一層最多可同時有三種不同蒸發速率的有機材料同時進行蒸鍍。
載入有機材料不會破壞主蒸鍍室的高真空。
藉由本公司專利的蒸發源設計,使得有機材料每一次蒸鍍僅需消耗約
0.02g(以蒸鍍厚度約500Å為考慮),大約為其他廠牌傳統蒸鍍法所需要重量的二十分之一,可十分有效的節省昂貴的有機材料。
有機材料的填充或更換不會破壞主蒸鍍室的高真空。
蒸鍍室由
dry pumpcryo-pump進行抽真空,可進行每日24小時的連續操作。
每一層有機層的蒸鍍僅約需時十分鐘。


金屬蒸鍍室 
藉由控制兩個可負載大電流的蒸發源設計,能同時進行兩種金屬或無機鹽類的蒸發。
載入金屬及無機鹽類材料不會破壞主蒸鍍室的高真空。


成品取出室 
功用為當取出蒸鍍完畢的基材時,可不破壞主蒸鍍室的高真空。
所使用最大的基材尺寸為
200mm x200mm,生產速度45/基版。
有機蒸鍍室和金屬蒸鍍室可同時且獨立的進行,也就是具有多工的模式。
本設備具有基材的傳送機構。

操作完全自動化,藉由PC-based LabView軟體控制達成按鍵即生產的特色,並可透過網際網路進行遠端檢視或操控。使用者必須在安裝系統時提供一個實體IP位址,這樣我們便可透過網際網路為顧客做立即的故障檢視及排除。


裝置一組
RF電漿清潔系統,以進行基材上ITO表面的清潔及改質。


具有三組專利的對位裝置,共使用了9CCD鏡頭,可在真空中進行自動對位的工作,此對位裝置的精度為正負1 um

提供獨特、創新、專利的封裝製程,使得封裝過程十分可靠、有效、省時、以及低成本。  

需要配有製程水(6 kg/cm2 at 12)、空壓 (5 kg/cm2)、及無塵室環境(潔淨度至少需10,000以下)。最大電流約為60A( 三相220V),而整個系統所佔 空間 5m x 8m  

需要空間大小 60 m 平方米
無塵等級
10,000
相關材料使用不需要支付柯達專利權利金


 


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